| 陶瓷磁控濺射設(shè)備 NH-MGG系列 | |||
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NH-MGG850TED | NH-MGG1000TED | NH-MGG1600TED |
| 真空室尺寸 | D850X900 | D1000X1100 | D1600X1600 |
| 均勻可鍍區(qū) | D500XH500 | D650XH650 | D1100XH1200 |
| 極限真空度 | 3.0*E-4Pa | ||
| 壓升率 | 0.1Pa/hr | ||
| 轉(zhuǎn)架形式 | 標(biāo)配兩套轉(zhuǎn)架系統(tǒng)+周轉(zhuǎn)小車 采用整進(jìn)整出形式 產(chǎn)品可爐內(nèi)一次性翻面沉積 | ||
| 沉積裝置 | 中頻磁控柱靶+過濾電弧 | ||
| 離子輔助裝置 | 燈絲離子源+中頻高壓轟擊裝置 | ||
| 真空檢測 | 復(fù)合真空計+薄膜真空規(guī) | ||
| 加熱系統(tǒng) | 400℃，3根熱電偶監(jiān)測 | ||
| 冷卻水循環(huán)系統(tǒng) | 配日本SMC水流開關(guān)，智能控制 IPC+PLC全自動控制 | ||
| 控制系統(tǒng) | 觸摸式 手動 全自動 帶自動暖機(jī) 智能無人值守關(guān)機(jī)聯(lián)動系統(tǒng) | ||
| 生產(chǎn)運行周期 | 涂層(2um), 1-3小時/爐 | 涂層(2um), 1-3小時/爐 | 涂層(2um), 1-3小時/爐 |
| 極限載重 | 300KG | 500KG | 500KG |